EUV激光器和EUV光刻机原型机在全球引起极大的轰动，阻碍全球半导体产业发展的技术瓶颈被美国科学家攻克。
GCA同时宣布，GCA EUV光刻机的量产还需要很长的时间。
得到消息的魏建国、邓国辉和钱富强都知道BSEC公开推出浸没式光刻机不远了。
工程院院士候选人不受理个人申请，需要通过院士或有关学术团体提名，也可以同时通过以上两种渠道提名。
钱富强研究员在全球顶尖光刻机期刊上发表了30多篇专业论文，在全球光刻机光源行业具有极高的威望，主持研发成功的浸没式光刻机是全球首创，国际领先技术，具有百亿美元的市场价值。
京城半导体集团拥有4名光刻机专业顶尖的院士。
邓国辉院士担任光刻机协会会长，还担任国家光刻机专家组主任委员，欧阳明院士、陈伟长院士和夏季常院士担任国家光刻机专家组副主任委员，钱富强研究员担任光刻机协会秘书长。
浸没式光刻机经过专家组鉴定只是走程序。
“邓总，马上组织光刻机专家组成员鉴定，鉴定通过后，申请公司发明专利。”
“好的，董事长！”
魏建国知道浸没式光刻机的来龙去脉，一直保守秘密。
BSEC从1999年8月开始立项，投资1亿元，邓国辉和钱富强带领光刻机光源研究所，静下心来开始研发EUV，虽然快4年过去，前后花费3.6亿元，还没有研发成功EUV，但光源研究所的科研成果丰硕，申请了165项公司发明专利（其中4项核心发明专利），研发成功具有自主知识产权的浸没式光刻机所需的光学系统，并生产了3台浸没式光刻机试验机，只等孙董事长一声令下，BSEC随时可以量产。
(本章完)
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