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第一七四四章 nm半导体生产线量产

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一视同仁!

PGCA半导体(鹏城)集团投资17.85亿美元在鹏城高新园区建设的另一条12英寸晶圆、65nm制程工艺的半导体生产线,已经进入设备安装调试阶段,将于9月试生产。

曙光东芝晶圆公司(TTFAB)投资18亿美元在浦东新区高科技园区建设的一条65nm制程工艺半导体生产线也将于9月试生产,到年底,国内将有3条65nm制程工艺的半导体生产线量产,对外代工芯片生产,抢先占领国内外65nm制程工艺的芯片代工市场。

去年7月,Intel、AMD、台联电分别从京城半导体集团定购了一条65nm制程工艺半导体生产线;工程建设进度最快的是台联电,计划于今年11月试生产;Intel、AMD的生产线计划于明年1月试生产。

京城半导体集团负责65nm制程工艺半导体生产线的设备安装调试和人员培训,知道每家的进度。

去年12月,ASML虽然宣传研发成功XT 1400i浸没式光刻机,但因为侵犯了BSEC正在申报的纯净水介质的公司发明专利,由于这项专利到如今还没有得到国际专利局的专利技术证书,BSEC也不能授权,XT 1400i浸没式光刻机也不敢量产,如今处于停滞状态。

GCA拥有EUV激光器研发成功和 EUV原型机,借助于BSEC浸没式光刻机的技术,于今年1月,研发成功GCA 65nm制程工艺的浸没式光刻机TWINSCAN GNT:2450i。

去年12月,Nikon研发成功全球第一台157nm干式光刻机试验机,展示了Nikon在光学技术和光刻机系统研发方面的强大实力,有助于巩固其在半导体光刻设备领域的地位,吸引更多芯片制造企业的关注和合作;还没有听说Nikon 65nm干式光刻机量产的消息。

(本章完)

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